Banca de DEFESA: JULIO FERNANDO SOUSA DE CARVALHO

Uma banca de DEFESA de MESTRADO foi cadastrada pelo programa.
DISCENTE: JULIO FERNANDO SOUSA DE CARVALHO
DATA: 10/03/2023
HORA: 09:00
LOCAL: Auditório do PPGCM
TÍTULO: INFLUÊNCIA DO TEMPO DE TRATAMENTO NA SÍNTESE DE FILMES FINOS DE ÓXIDO DE COBRE OBTIDOS ATRAVÉS DA TÉCNICA DE DEPOSIÇÃO POR PLASMA COM GAIOLA CATÓDICA
PALAVRAS-CHAVES: Filmes finos, óxido de cobre, gaiola catódica, plasma.
PÁGINAS: 35
GRANDE ÁREA: Engenharias
ÁREA: Engenharia de Materiais e Metalúrgica
SUBÁREA: Metalurgia de Transformação
ESPECIALIDADE: Tratamentos Térmicos, Mecânicos e Químicos
RESUMO:

O cobre possui características como maleabilidade, ductilidade e resistência a corrosão em condições favoráveis, se apresenta com uma coloração alaranjada. Com uma ampla área de aplicação, podendo ser usado na construção civil, condutores de energia elétrica, dissipadores de calor, placas de circuito impresso e dispositivos eletrônicos em geral. Todo elemento ao ser combinado, advém uma mudança na estrutura molecular, onde são acrescentadas características ao composto, um exemplo é a sua combinação com oxigênio, que é utilizado como matéria prima para a produção de catalisadores, pigmentos no campo da cerâmica e semicondutores. Portanto este trabalho, traz uma análise da síntese do filme de óxido de cobre depositado pela técnica de deposição por plasma com gaiola catódica, onde foi investigado a influência do tempo de tratamento no processo. Os tratamentos foram realizados variando o tempo nos intervalos de 2h, 3h, 4h e 5h, a uma temperatura de 320 °C com uma mistura de hidrogênio-oxigênio na proporção de 50% em potencial flutuante, como substrato para a deposição foi utilizado vidro laminado com as seguintes dimensões 2,5 cm de largura, 2,5 cm de comprimento e com espessura de 0,1 cm. Os filmes foram analisados por difração de raios X, microscopia eletrônica de varredura, espectroscopia Raman e fotoluminescência. Através das análises das técnicas de Difração de raio-X e a espectroscopia Raman, observou-se a formação dos filmes de CuO na fase Tenorite, bem como compostos utilizados na fabricação do substrato de vidro, através das micrografias obtidas pelo MEV a morfologia do filme e mensurar a espessura da camada do filme depositado que apresentou valores entre 1,16 à 3,67 µm aumentando conforme o tempo de tratamento.  A Energia do gap calculado para o filme manteve valores próximos variando entre 2,57 e 2,64 eV. Observou-se nos espectros de fotoluminescência que a amostra tratada por 2h apresentou maior intensidade PL, como consequência a amostra apresentou maior energia de gap, podendo ser relacionando diretamente a organização da estrutural do filme. 

MEMBROS DA BANCA:
Presidente - 6276167 - ROMULO RIBEIRO MAGALHÃES DE SOUSA
Interno - 1229211 - MARCOS GUILHERME CARVALHO BRAULIO BARBOSA
Externo ao Programa - 2056226 - CLEANIO DA LUZ LIMA
Externo à Instituição - LUIZ HENRIQUE PORTELA DE ABREU - IFAM